■ メンバー構成
ケミカルプロセス研究室(岩本・本多グループ) 2025年度 メンバー構成 (2025年4月4日現在)
教 授 |
岩本 雄二 |
iwamoto.yuji@ |
准教授 |
本多 沢雄 |
honda@ |
外国人特別研究員 |
Maxime Claude CHEYPE |
2023.11〜2025.10 |
秘 書 |
三摩 泰子 |
samma.yasuko@ |
@のあとに、nitech.ac.jpをつけてください
学生
M2 | 伊藤 順平 |
EGUCHI Fernando Shinji |
中村 涼太郎 |
出口 哲平 |
M1 | 横田 穂高 |
畑田 壮大郎 |
都築 美佑 |
尾形 幸人(本多研) |
B4 | 光岡 佑真 |
谷 佳音 |
伊藤 萌 |
川口 真弥(本多研) |
今村 亘(本多研) |
大村 宏翔(本多研) |
研究生 | Arthus Zachariou (Univ. Limoges) (2025.4.21〜2025.7.21) |
Merabi Nadiradze (Univ. Limoges) (2025.4.28〜2025.7.31) (本多研) |
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