メンバー

■ メンバー構成

ケミカルプロセス研究室(岩本・本多グループ）　2026年度　メンバー構成　（2026年4月1日現在）

＠のあとに、nitech.ac.jpをつけてください

学生

Ｍ２	横田　穂高
	畑田　壮大郎
	都築　美佑
	尾形　幸人（本多研）
Ｍ１	伊藤　萌（本多研）
	川口　真弥（本多研）
	今村　亘（本多研）
	大村　宏翔（本多研）
Ｂ４	島倉　渉
	安田　充
	齋藤　弘貴
	寺崎　累季子（本多研）
	内藤　凛（本多研）
	神吉　宥奈（本多研）
	畑尾　さくら（本多研）(創造工）
研究生	Nehig-Michau Elie(Univ. Limoges) （2025.5～2025.8）